PlasmaQuant MS 的靈敏度可顯著提高樣品分析效率降低單樣品分析成本。設(shè)計(jì)的ICP-MS分析確保在極短的積分時(shí)間或大比例稀釋的前提下，依然可以獲得低的檢出限和恒定的分析速率。這就保證了最大的樣品通量、分析結(jié)果的長(zhǎng)期穩(wěn)定性及重復(fù)性，并顯著減少日常維護(hù)頻率。

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀
根據(jù)您的需求量身定制版ICP-MS

• 超高靈敏度： 靈敏度【cps/ppm】低質(zhì)量數(shù)：7Li ≥100 M，中質(zhì)量數(shù)：115In ≥500 M，高質(zhì)量數(shù)：238U ≥500 M; 氧化物產(chǎn)率（CeO+/Ce+）：≤1.8 %

• 低運(yùn)行成本：氬氣消耗降低50%

• 高效：樣品分析速率提升 50%

• 穩(wěn)定：輕松應(yīng)對(duì)各種復(fù)雜基體，確保優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性

• 靈活：根據(jù)不同應(yīng)用多樣化配置儀器
  

高靈敏度和最快的分析速度

PlasmaQuant MS 的靈敏度可顯著提高樣品分析效率降低單樣品分析成本。設(shè)計(jì)的ICP-MS分析確保在極短的積分時(shí)間或大比例稀釋的前提下，依然可以獲得低的檢出限和恒定的分析速率。這就保證了最大的樣品通量、分析結(jié)果的長(zhǎng)期穩(wěn)定性及重復(fù)性，并顯著減少日常維護(hù)頻率。

• 最佳檢出限

• 高樣品通量

• 顯著降低樣品前處理工作量

• 出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性

• 低維護(hù)

的分析性能和低使用成本

PlasmaQuant MS的高靈敏度實(shí)現(xiàn)了業(yè)內(nèi)低檢測(cè)限。質(zhì)譜分辨率和低豐度同位素最佳檢測(cè)靈敏度使PlasmaQuant MS在超低痕量分析、超低濃度形態(tài)分析、直徑小于10nm的單納米顆粒物分析和高精密度同位素比值分析等應(yīng)用領(lǐng)域獲得最佳的分析結(jié)果。PlasmaQuant MS的靈敏度使其能夠在確保精密度和重復(fù)性的前提下顯著縮短分析時(shí)間。的質(zhì)譜干擾消除系統(tǒng)iCRC可高效、簡(jiǎn)潔、快速地消除ICP-MS分析中的質(zhì)譜干擾，不同氣體模式之間的快速切換及的BOOST技術(shù)，即便應(yīng)對(duì)要求苛刻的樣品依然可以輕松獲得出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和業(yè)內(nèi)的分析速度。

PlasmaQuant MS降低氬氣消耗50%。的等離子體聚焦技術(shù)在確保極低氧化物產(chǎn)率（<2% CeO+ /Ce+ ）的前提下，增強(qiáng)等離子體基體耐受性的同時(shí)，等離子氣消耗量小于9L/min。檢測(cè)器在脈沖計(jì)數(shù)模式下可高達(dá)11個(gè)數(shù)量級(jí)（0.1-1010 cps）的動(dòng)態(tài)線性范圍，在樣品分析時(shí)實(shí)現(xiàn)了從超低痕量到高濃度的快速準(zhǔn)確的多元素分析，并極大的延長(zhǎng)檢測(cè)器的使用壽命。